半导体匀胶显影机一般由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成，适用于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。
本期小明就来分享一下传感器在匀胶显影机中的作用~
检测水滴/胶滴
光纤传感器 PG1+ PT-30ML
- 选用区域对射光纤，覆盖面积广，即使水滴路径有微小偏差依然在检测区域内，可被稳定检测
- 功率大，光轴清晰明亮，可轻松调整光轴位置
- 放大器搭载了超高速模式，微秒级响应时间，可稳定快速地进行检测
- SET按键调试，使用简便轻松
检测晶片位置
激光传感器 ELE-RM05N
- 晶圆传送盒的颜色和形状变化所产生的光量值偏差很小，需要选择回归反射型传感器可进行稳定的测量，安装反光板，减少了布线烦恼
- 光斑小，可将传感器装在外部，穿过孔洞对内部物料进行检测，轻松实现识别晶片倾斜/缺料等位置不正的情况
- 激光的指向性佳，光斑小，便于安装
控制憎水液位
液位传感器 CE30-26NO
- 当槽管内存在气泡时，普通的光学传感器很可能造成误判
- 产品防护等级IP67，防水防尘
- 传感器固定方式灵活，可任意轻松移动检测位置
匣盒载物台的下限检测
接近传感器 ESL-T50NO
- 超薄尺寸，厚度仅有4mm，任意狭小空间均可安装
- 采用对射检测原理，稳定可靠
- 检测距离达50cm，任意大小的设备场景均可使用
